CR-2000 SBN半光亮镍电镀工艺
一、适用范围和特点
适用于双层镍体系中的半光亮镍电镀工艺。使用该工艺所得的半亮镍和光亮镍之间能产生好的电位差，从而达到抗腐蚀性能好的镀镍体系。该工艺还具有操作范围宽，分解产物少，处理周期长等特点。
二、工艺配方
组分配方
硫酸镍 300-350克/升
氯化镍 40-50克/升
硼酸 40-45克/升
SBN-1 4毫升/升
SBN-2 2毫升/升
DB低泡润湿剂 1-5毫升/升
阴极电流密度 2-4安培/平方分米
PH 3.5-4.5
温度 50-60℃
搅拌 空气搅拌
过滤 连续过滤
三、消耗量
SBN-1 150-200毫升/千安培小时
50-80毫升/千安培小时
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