一、适用范围和特点

  适用于双层镍体系中的半光亮镍电镀工艺。使用该工艺所得的半亮镍和光亮镍之间能产生好的电位差，从而达到抗腐蚀性能好的镀镍体系。该工艺还具有操作范围宽，分解产物少，处理周期长等特点。

二、工艺配方

组分配方

硫酸镍                      300-350克/升

氯化镍                      40-50克/升

硼酸                       40-45克/升

SBN-1                       4毫升/升

SBN-2                       2毫升/升

DB低泡润湿剂                    1-5毫升/升

阴极电流密度                    2-4安培/平方分米

PH                         3.5-4.5

温度                        50-60℃

搅拌                        空气搅拌

过滤                        连续过滤

三、消耗量

SBN-1                  150-200毫升/千安培小时

50-80毫升/千安培小时

                                            工艺配方

组分配方

硫酸镍                      300-350克/升

氯化镍                      40-50克/升

硼酸                       40-45克/升

SBN-1                       4毫升/升

SBN-2                       2毫升/升

DB低泡润湿剂                    1-5毫升/升

阴极电流密度                    2-4安培/平方分米

PH                         3.5-4.5

温度                        50-60℃

搅拌                        空气搅拌

过滤                        连续过滤